光刻腐蚀静电消除_半导体行业_解决方案_埃用仪器（苏州）有限公司

半导体行业

光刻腐蚀静电消除

问题

1. 一批“双模拟开关”电路装上PCB，经保形涂敷后，少数样品出现输入特性恶化

2. 去除铝后，发现n+环上的氧化层有很小的击穿孔洞

解决方案

1. 经失效分析后，发现输入端（基极）的铝金属化跨过n+保护环扩散层处发生短路和漏电。

2. 光刻腐蚀的速度较快，发生了静电放电损害。

3. 加装静电消除装置后，问题解决。

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Tronovo/埃用，始于2006年，注册资本1000万，国家高新技术企业(2022)，科技型中小企业(2022)，累计已获取授权专利60多项。专注于静电控制领域，以“争做百年品牌企业”为愿景，为企业客户提供ESD业务解决方案，为需要静电控制、表面除尘的客户提供产品、技术和建议。我们通过可靠的产品开发和制造，以完美的产品，优异的性能，合理的价格以及快速的响应能力来满足您的各种要求。

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